배경

• Ashing 공정을 비롯해 플라즈마를 사용하는 대부분의 공정에서 챔버 내부를 진공으로 만들어 프로세스 진행
• 설비의 특정 부품에 손상이 갈 경우 외부 공기가 내부로 유입되는 누출(Leakage) 현상 발생
• 설비를 멈추지 않으며 내부 공정에 영향을 주지 않는 센서인 로그 데이터와 OES를 이용해 10mTorr/m 이하의 누출(Leak)을 탐지하길 희망
• Concept drift 발생으로 동일 설비, 레시피로 공정을 수행해도 데이터 분포에서 큰 차이를 보임

적용 기술

• 반도체 공정에 특화된 Cycle Standardization 기법 이용
• 각 데이터 수집 기간 (Lot, time 등)을 cycle로 정의한 후 cycle 초기 웨이퍼로 Standarization을 진행하는 방식 이용

적용 결과

• 알티엠 ‘아폴로’ 솔루션 적용 결과, 누출(Leakage) 추정 정확도 99.2 % 달성